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                  高沃動態

                  高沃參展全球知識產權行業頂級盛會——第141屆INTA年會

                  美國東部時間5月19日-22日在美國馬薩諸塞州的波士頓會議展覽中心舉行的第141屆國際商標協會(INTA)年會如期召開。

                   

                   

                  高沃知識產權美國辦事處褚海英律師、國際部董總監、劉總監和多名商標代理人共赴美國參加了本次盛會,與全球各國知識產權專家、業界領袖、行業代表溝通交流,借助世界舞臺再次展示了高沃在知識產權領域的實力和風采!

                   

                   

                  本次年會有190多個展位,高沃知識產權獨占3個展位,可以說高沃展位是本次年會最大的展位之一了,眾多展位中高沃精心布置的品牌藍為主色調的展位非常醒目,吸引了眾多參會代表前來交流訪問。

                   

                   

                  高沃代表團接待了來自全球多個國家和地區的國際知識產權代表團、政府代表團、企業專家和學者,交流探討了各國知識產權的最近資訊信息,展示了高沃在知識產權領域的服務實力,并與多個國際事務所建立了友好合作關系。

                   

                  高沃國際代表團與各國參會代表、客戶交流洽談

                   

                  高沃董總監與客戶合影

                   

                  高沃美國辦事處褚海英律師與他國律師交流

                   

                  看圖,找亮點~

                  (會場內戴著高沃禮帽的參會代表隨處可見)

                   

                  當今,隨著企業技術實力的提升,知識產權的保護會進一步加強,這是國際社會大趨勢,也是中國IP的必由之路。作為中國知識產權服務主體,高沃希望能為全球企業的知識產權保駕護航,力爭打造覆蓋全球的知識產權服務網絡,為知識產權行業發展添磚加瓦!

                   

                   

                  INTA年會圓滿落下帷幕,高沃知識產權代表團滿載而歸,波士頓之行將留存心底,而高沃的新篇章會繼續譜寫。高沃知識產權將一如以往,秉承著“用知識產權為客戶創造最大價值”的服務理念,為保護國內外客戶知識產權權益而努力,促進全球知識產權行業的進步和發展!


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