<form id="r9fh3"></form><form id="r9fh3"></form>

        <address id="r9fh3"></address>

          <address id="r9fh3"><listing id="r9fh3"><nobr id="r9fh3"></nobr></listing></address>

                  會社動向

                  高沃が香港で國際商標年會に參加した


                  2014年5月10至14日、國際商標協會(INTA)第136回の年會は香港で開かれた。グローバル知的財産権分野の盛事は初めてアジアで行われた。INTA年會は、グローバル知的財産権業界で最大、最重要、最も活力のある盛會である。今回の盛會では、高沃の代表団は100ヶ國?地域の8500名余りの知的財産権所有者と知的財産権サービス機関の代表と集まり、積極的に同業者と広くて深く交流、學習し、「より高品質で高効率の知的財産権代理サービスを顧客に提供すること」について検討し、更にグローバル法律事務所の協力ネットワークを固めた。

                   

                   

                   
                   

                   

                  トップに戻る
                  お問い合わせ | プライバシーポリシー | 免責事項
                  Copyright ? 高沃 All Rights Reserved
                  5分排列3